大家都清楚，目前主流的芯片制造方法，都是基于光刻技术，而其中最为核心的部分就是光刻机。
在光刻机领域，AL公司占据了超过80%的全球市场份额，特别是在先进的EUV光刻机方面，全球仅有AL具备生产能力。这使得全球的先进芯片制造企业都受到AL的制约，尤其是在生产7nm以下的芯片时，EUV技术更是不可或缺。
长期以来，许多企业都在努力突破AL的技术垄断，尤其是试图寻找替代EUV光刻机的其他芯片制造技术。如果哪家企业能够成功研发出新的技术，那么全球芯片设备的格局可能会发生翻天覆地的变化。
事实上，除了AL的EUV光刻机技术外，世界上还有其他几种技术策略正在研究中。例如，日本研究的NIL纳米压印技术，佳能公司已经推出了相关的设备，据说该技术也可以应用于5nm芯片的生产。还有电子束技术，也是一种可应用于5nm及以下芯片制造的技术。
最近，英国南安普敦大学宣布成立了一个先进的电子束光刻中心，该中心的分辨率低于5纳米，据说能够制造下一代半导体芯片，而且无需使用EUV光刻机。这是全球第二个、欧洲第一个此类电子束光刻中心。
尽管这一技术取得了显著的进展，但当前的产品仍存在一定局限性。目前，该技术只能应用于8英寸的晶圆，若要支持12英寸的晶圆，还需要进一步的技术突破。
如果这种电子束光刻机技术能够实现重大突破，解决产能、分辨率等问题，那么AL的市场地位将受到严重威胁。现有的行业格局可能会发生巨大的变化。对于我们来说，虽然表面上看起来有更多的选择，但这些技术并非来自本土，因此即使我们拥有，也可能不会向我们出售。我们仍然需要自力更生，掌握核心技术，以避免受制于人。
